导读 关于光刻胶成分及合成方式，光刻胶成分这个问题很多朋友还不知道，今天小六来为大家解答以上的问题，现在让我们一起来看看吧！1、光刻胶（p
关于光刻胶成分及合成方式，光刻胶成分这个问题很多朋友还不知道，今天小六来为大家解答以上的问题，现在让我们一起来看看吧！
1、光刻胶（photoresist，也作光致抗蚀剂，光阻），是一种由聚合物树脂（resin），光敏化合物（photoactive compound）和溶剂等混合而成的胶状液体，从成份上来讲，都是碳基有机化合物。
2、树脂，作为粘合剂的聚合物混合物，决定了光刻胶的机械和化学性能；光敏化合物，决定了光刻胶的光敏感度：当受到特定波长能量束作用后，光敏化合物会分解或者聚合，激发化学反应，使受辐照区域在某些特定溶液中的溶解特性发生改变，或溶解性被增强或变得更难溶，进而形成光刻胶图案；溶剂，则可以改变光刻胶的粘度，从而在合理的转速范围内得到所要的厚度。
本文分享完毕，希望对大家有所帮助。
标签：
免责声明：本文由用户上传，如有侵权请联系删除！